由于铟靶材在半导体制造等领域有重要应用，一些半导体相关的企业和科研机构可能会有收购铟靶材的需求。这些企业通常对铟靶材的质量和规格有较高的要求，它们可能会通过专业的渠道或与行业内的供应商建立合作关系来获取铟靶材。
ITO靶材主流回收技术 机械物理分离：适合较厚靶层，回收效率高。 湿法化学回收：利用酸碱进行溶解分离，适合大批量废靶材。 热处理工艺：部分回收方案采用高温分离，能耗较大。
铟在半导体、液晶显示器等电子器件的生产中发挥着重要作用。铟靶材通常用于物相沉积（PVD）工艺中，制造薄膜。然而，铟靶材的成本高昂，且供应有限，因此从废弃或用过的靶材中回收铟变得至关重要。
铟靶材回收的主要任务是将铟从靶材中的其他金属和材料中分离出来，并将其提纯至高纯度。回收方法包括火法、湿法和电化学法。 火法冶金工艺使用高温熔炼和精炼来回收铟。这种方法适用于大规模回收，但存在一些缺点，如产生危险废物、高能耗，以及可能损失有价值的铟。 湿法冶金工艺利用化学浸出剂将铟从靶材中溶解出来。这种方法比火法更环保，适用于从成分复杂的靶材中回收铟。然而，这一过程可能较为复杂，需要使用危险化学品。 电化学过程通过电流将铟从靶材中溶解和回收。这种方法也比火法更环保，可以回收较高纯度的铟。但这一过程可能较为复杂，需要专门的设备和专业知识。