由于铟靶材在半导体制造等领域有重要应用，一些半导体相关的企业和科研机构可能会有收购铟靶材的需求。这些企业通常对铟靶材的质量和规格有较高的要求，它们可能会通过专业的渠道或与行业内的供应商建立合作关系来获取铟靶材。
ITO靶材的基本介绍 主要成分：氧化铟（In2O3）和氧化锡（SnO2） 应用领域：液晶显示、OLED、太阳能电池、触摸屏等 靶材类型：新靶材、废靶材（使用后剩余靶材）
ITO靶材回收流程 1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。 2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层 3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层 4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素 5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物 6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途
在分离铟和其他金属和材料时，可以采用几种方法，包括选择性溶解、溶剂萃取、离子交换和沉淀。选择性溶解使用化学浸出剂选择性地溶解铟，而保持其他金属和材料不变。溶剂萃取使用有机溶剂选择性地提取铟。离子交换则通过树脂吸附铟离子，同时留下其他离子。沉淀法使用化学试剂使铟从溶液中沉淀出来，而将其他金属和材料留在溶液中。